光掩膜是在高純度石英或玻璃薄片
上面刻製晶片計（積體電路計）的
線路圖。用途將線路圖轉移到晶片
上，再進行晶片製作工藝程序，類
似照相片或是印刷母版的功能，是
半導體晶片（積體電路）製造中，
批量生產的必要關鍵技術。

光掩膜所使用勻膠鉻皮是在一片石
英板上利用濺鍍的方式在石英皮表
面上鍍上一層鉻膜，再使用旋布機
在鉻膜上塗布一層感光材料。鉻膜
光掩膜就是利用勻膠鉻板，經過前
段制程的曝光、烘烤、顯影、蝕刻
、除膠及後制程的檢測、修補等
流程，即完成鉻膜光掩膜的製備。